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中国实现离子注入机全谱系产品国产化(huà) 助力芯片制造
来源:新(xīn)闻(wén)中心(xīn)
发布时间:2021年03月18日 编辑:新(xīn)闻中心(xīn)

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  中国电科旗(qí)下电科装备研制(zhì)成功的离子注入机。中国电科 供图(tú)

  中新网北京(jīng)3月(yuè)17日电 (记(jì)者 孙自法)记者17日从中(zhōng)国电子科技集团有(yǒu)限公(gōng)司(中(zhōng)国电科(kē))获悉,该(gāi)集团旗下电(diàn)科装备已成功实现离子注入机全谱系(xì)产品国产化,可(kě)为全球芯片制造企业提供离子注(zhù)入机(jī)一站式解决方(fāng)案。

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中国(guó)电科旗下电科装备研制成功的离子(zǐ)注入(rù)机(jī)。中国(guó)电(diàn)科 供图(tú)

  中国电科介绍说,离子注入机是芯片(piàn)制造中的关键装备。电(diàn)科装备连续突破大流强长寿命高(gāo)品(pǐn)质(zhì)离子源、高(gāo)速晶(jīng)圆(yuán)传输(shū)等“卡(kǎ)脖子”关键技术,自主研制出中束流、大束流、高能(néng)、特种应用(yòng)及(jí)第三代半导体等离子注入(rù)机,工艺段覆盖至(zhì)28纳米,已(yǐ)累(lèi)计形成核心发明专利413项(xiàng),实现中(zhōng)国芯片制造领域(yù)全(quán)谱(pǔ)系离子(zǐ)注入机自主创新发展,将有效缓解中国芯片制造领域断链、短链难题。

中国电(diàn)科(kē)旗下电(diàn)科(kē)装备科技人员对研制(zhì)成功的离(lí)子注(zhù)入机进行相(xiàng)关测试。中国电科(kē) 供图

  中国(guó)电科(kē)表示(shì),下(xià)一步,电科装备将瞄(miáo)准高端,紧跟先进工艺发展,加快推进(jìn)适用于更(gèng)先进工艺(yì)节点离(lí)子注入(rù)机的研发及产业化。

  据了(le)解,中国电科是中国(guó)军工电子主(zhǔ)力军(jun1)、网信事业“国(guó)家队”、国家战略(luè)科技(jì)力量(liàng),拥有电(diàn)子信息(xī)领域相对(duì)完(wán)备(bèi)的科技创新(xīn)体系。目前,中国电科旗下包括47家国家级研(yán)究院所、11家(jiā)上市(shì)公司在(zài)内的企事业单位500余(yú)家,员(yuán)工20余万名(míng),并拥有(yǒu)35个国家(jiā)级重点实验室、研究中心和创新中心。

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